合金電感耦合等離子體光譜儀符合DB/T16477.3-2010 稀土硅鐵合金及鎂硅鐵合金化學(xué)分析方法，和稀土行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)：XB/T 612.2-2009釹鐵硼廢料化學(xué)分析方法的技術(shù)要求-電感耦合等離子體光譜法。

應(yīng)用范圍：

1．鋼鐵及其合金的分析：包括碳素鋼、鑄鐵、合金鋼、高純鐵、鐵合金等。

2．有色金屬及其合金的分析：包括有色金屬及其合金、稀有金屬及其合金、貴金屬、稀土元素及其化合物。

3．水質(zhì)樣品的分析：包括飲用水、地表水、礦泉水、高純水及廢水等。

4．環(huán)境樣品的分析：包括固體廢物、土壤、粉煤灰、大氣飄塵等。

5．地礦樣品的分析：包括地質(zhì)樣品、礦石及礦物等。

6．動(dòng)植物及生化樣品的分析：包括植物、中藥及動(dòng)物組織、生物化學(xué)樣品等。

7．核工業(yè)產(chǎn)品的分析：包括核燃料、核材料等。

8．食品及飲料的分析：包括食品、飲料等。

9．化學(xué)化工產(chǎn)品的分析：包括化學(xué)試劑化工產(chǎn)品無機(jī)材料化妝品油類等。

技術(shù)參數(shù)：

1.射頻發(fā)生器（RF）
(1) 電路類型：電感反饋式自激振蕩電路，同軸電纜輸出，匹配調(diào)諧，取功率反饋，進(jìn)行閉環(huán)自動(dòng)控制。
(2) 工作頻率：40.68MHZ±0.05%
(3) 頻率穩(wěn)定性：<0.1%
(4) 輸出功率：800－1200w
(5) 輸出功率穩(wěn)定性：≤0.3%
(6) 電磁場泄漏射強(qiáng)度：距機(jī)身30cm
電場強(qiáng)度E：<2V/m，磁場強(qiáng)度H：<0.2A
2.進(jìn)樣裝置:
(1) 輸出工作線圈內(nèi)徑25mm，3匝
(2) 炬管：三同心Fassel型，外徑20mm的石英炬管
(3) 同軸型噴霧器外徑6mm
(4) 雙筒形霧室外徑35mm
(5) 氬氣流計(jì)規(guī)格和載氣壓力表規(guī)格：
①等離子體流量計(jì)（100-1000）L/h ；(1.6-16L/min)
②輔助氣流量計(jì)（10-100）L/h ；(0.16-1.66L/min)
③載氣流量計(jì)（10-100）L/h ；(0.16-1.66L/min)
④載氣穩(wěn)壓閥（0-0.4MPa）

測光裝置:
(1) 光電倍增管規(guī)格： R212UH
(2) 光電倍增管負(fù)高壓：200-1000V ，穩(wěn)定性<0.05%
(3) 光電倍增管電流測量范圍：10-12 -10-4A
(4) 信號(hào)采集為V/F交換：1mV對(duì)應(yīng)100Hz

分光器:
(1) 光路: Czerny- Turner
(2) 焦距: 1000mm
(3) 光柵規(guī)格：離子刻蝕全息光柵，刻線密度2400線/mm，刻線面積: 110×110mm，線色散率倒數(shù)：0.26nm
(4) 波長范圍：190-500nm
(5) 分辨率: ≤0.01nm
(6) 掃描波長范圍2400線/mm 掃描波長范圍：190-800nm
(7) 步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)zui小步距：0.0005nm
(8) 入射狹縫：20µm   出射狹縫：25µm
(9) 發(fā)射鏡規(guī)格：（105 × 105 × 16）mm
(10) 透鏡ф30，1:1成像